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高純度 N2O は主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度 C4F8は主 にその酸化膜の微細加工（エッチング）などに使用される特殊ガスです。第5世代移動通信（5G） など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により、中国においては今後も半導体 およびディスプレイ市場（有機ELテレビ等）の拡大が見込まれます。
当社は現在、高純度 N2Oは川崎事業所と韓国で、高純度 C4F8は川崎事業所と上海（SSE 第 一工場）で生産していますが、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため、“地産 地消”施策をさらに進めます。また中国において年々化学品への規制が強化される中、中国上海 に自社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することは、サプライチェーンの強化、競争力の 向上に大きく寄与します。当社の持つ製造・品質管理技術を組み合わせ、お客様に最適な供給体 制を整えることで、さらに事業を強化してまいります。
SSE第二工場の概要）
面積：約10,000平米
建設予定設備：
高純度N2O 年産能力1,000トン
高純度C4F8 年産能力 600トン
高圧ガス危険物倉庫
稼働開始予定：2021年下半期
また、半導体市場は、台湾でも同様に拡大が見込まれるため、当社の現地製造子会社「台湾昭 和化学品製造股份有限公司」においても高純度 C4F8 年産 150 トンの製造設備を新設いたします （2020年春稼働予定）。今回の投資額は、上海・台湾を合わせ、約30億円です。
当社グループは、個性派企業（収益性と安定性を高レベルで維持できる個性派事業の連合体） の実現をVision（目指す姿）としており、電子材料用高純度ガス事業は当社の個性派事業の一つ です。今後も品揃え・供給体制を充実させていくことで、世界の電子材料市場の拡大に対応し、さらなる事業競争力・収益性向上を図ってまいります。
*用地取得：50年間の土地使用権の取得
本リリースの詳細は下記URLをご参照ください。
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概要：昭和電工株式会社
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本件に関するお問合せ先：
昭和電工株式会社
広報室 03-5470-3235
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