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米オレゴン州コーバリス--(BUSINESS WIRE)--(ビジネスワイヤ) -- 極端紫外線リソグラフィー(EUV)向け高解像度金属酸化物フォトレジストのパイオニア企業インプリアは本日、半導体製造エコシステムのリーダーらが参加する広範な企業連合によるシリーズC資金調達で3100万ドルを確保したと発表しました。今回の資金調達はフォトレジストメーカーで既存投資企業のJSR株式会社が主導しました。新規投資企業にはSKハイニックスとTSMC Partnersがあります。本ラウンドには既存投資企業のAir Liquide Venture Capital ALIAD、アプライド ベンチャーズ、インテルキャピタル、サムスンベンチャー投資も参加しました。
JSR Microの社長でインプリア取締役のマーク・スレザークは、次のように述べています。「インプリアは先進的EUVリソグラフィープロセス向け金属酸化物フォトレジストの世界的リーダー企業です。当社がインプリアと品質および全体的な市場採用の件でインプリアと協業している中、私たちはインプリアとの提携拡大を非常にうれしく思います。」
インプリアのフォトレジストは酸化錫ナノクラスターで構成されており、従来のポリマーベースのレジストと比べてサイズがわずかでEUV光子を最適に吸収するように調整した構成要素により、解像度の向上を実現しています。インプリアのフォトレジストは比類のないエッチング選択性を備えることで、製造フローを簡素化し、プロセスウインドウを拡大して、所有コストの全体的な削減を実現できます。インプリアは最近、お客さまのために初期の生産増強を支えるべく、量産プラントをオンライン購入しました。
インプリアのアンドリュー・グレンビル最高経営責任者(CEO)は、次のように述べています。「私たちは当社への投資企業の参加が半導体産業に対するインプリアの戦略的重要性を指し示す働きをするものと考えています。当社はその投資家基盤に、現時点でEUVパターニングを採用している世界の半導体メーカーすべてが含まれるようになったことをうれしく思います。この成果はフォトレジスト、装置、化学メーカーの強力な投資企業も参加したことで補完されます。私たちは当社の国際的なパートナーと協力して、画期的なEUVフォトレジストプラットフォームを業界向けに実現できるものと期待しています。」
インプリアについて
インプリア・コーポレーションは金属酸化物フォトレジストの設計・開発・製造における世界的リーダー企業です。インプリアのEUVフォトレジストにより、半導体メーカーはEUVリソグラフィーの潜在力すべてを実現できます。詳細情報についてはwww.inpria.comをご覧ください。
JSR株式会社について
JSR株式会社は世界で9000人以上を雇用している多国籍企業であり、多様な技術駆使型市場で材料を供給する有力企業です。JSRのグローバルネットワークは日本の東京に本社を置き、工場と事業所を欧州、米国、中国、台湾、韓国、シンガポール、タイに構えています。JSRは研究指向型組織として、現在および将来の人類社会の福祉にとって重要な数多くの産業、すなわちライフサイエンス、エネルギー貯蔵、合成ゴム、電子機器材料、ディスプレー、エッジコンピューティング関連製品の産業における有力なイノベーターとの緊密な協業を追求しています。JSR株式会社の詳細情報についてはwww.jsr.co.jpをご覧ください。
SKハイニックスについて
www.skhynix.com
ALIADについて
www.airliquide.com/connected-innovation/aliad-venture-capital
アプライド ベンチャーズについて
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インテルキャピタルについて
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サムスンベンチャー投資について
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