Global Reportsが公開した最新調査レポート「マスクフリー露光装置の世界市場規模、シェア、企業ランキング、売上、需要動向予測（2026～2032年）」によると、マスクレス露光装置の世界市場は、2025年の約7億900万米ドルから2026年には約9億4,500万米ドルへ拡大し、2032年には約27億200万米ドルに達すると予測されている。2026～2032年の年平均成長率（CAGR）は19.1%と高い伸びが見込まれる。マスクレス露光装置とは、物理的なフォトマスクやレチクルを使用せず、電子ビーム、レーザー、デジタル光学投影、集束イオンビームなどによって基板上にパターンを直接形成する露光・描画装置である。マスク製作期間や費用を抑えられるため、多品種少量生産、試作、設計変更を伴う半導体・微細加工分野で重要性が高まっている。
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先端パッケージングがデジタル露光の成長を後押し
マスクレス露光装置は、従来の研究開発向け試作装置から、先端パッケージングやシリコンフォトニクス、量子デバイス、MEMS、バイオ医療デバイスなどを支える柔軟な製造プラットフォームへと用途を広げている。特にAI・HPC向け半導体では、HBM、チップレット、FOWLP、PLP、再配線層（RDL）などの技術進展により、大型基板への高精度なパターン形成と工程変更への迅速な対応が求められる。この需要を背景に、デジタルマスクレス露光は今後の市場拡大を牽引する分野とみられる。
EBL・DLW・デジタル露光の技術別動向
マスクレス露光装置は、電子ビームリソグラフィ（EBL）、ダイレクトレーザーライティング（DLW）、デジタルマスクレス露光、集束イオンビーム（FIB）リソグラフィに大別される。EBLは集束電子ビームによってナノメートル級の微細パターンを形成し、単一ガウシアンビーム、可変成形ビーム、並列マルチビーム方式などに分かれる。2025年の市場売上構成比は約43.61%で最大だったが、2032年にはデジタルマスクレス露光が約43.13%を占め、最大セグメントになると予測されている。
DLWはレーザーによる直接描画や光重合を利用し、グレースケール構造、マイクロ光学部品、マイクロ流体デバイス、二光子・多光子造形などに対応する。2025年の構成比は約18.34%だった。FIBリソグラフィは集束イオンビームによる加工、注入、成膜、ナノパターニングを担い、同年の構成比は約4.93%にとどまるものの、量子構造や特殊材料の加工など代替が難しい用途を持つ。
大型基板対応と高精度補正が競争軸に
デジタルマスクレス露光は、DMD、SLM、GLVなどのデジタル光学素子を用いてパターンを投影する方式である。Heidelberg InstrumentsのMLA 150はDMDを動的マスクとして活用し、NikonのDSP-100はSLMによる回路パターン投影に対応する。SCREENのDW-3100はGLV方式のイメージングヘッドを採用している。EV GroupのLITHOSCALEは、先端パッケージング、MEMS、バイオ医療、IC基板向けに柔軟な露光プラットフォームを提供し、リアルタイムデータ転送やダイ単位の動的露光を特徴とする。Nikon DSP-100は最大600mm角の大型基板に対応し、反りや変形を補正する高精度露光を重視している。
今後の技術開発では、処理速度と解像度の向上、大型基板対応、マルチビーム・マルチヘッド化、リアルタイムデータ処理、AIを活用した位置・形状補正が重要となる。基板の大型化や反りへの対応は、先端パッケージング用途で特に重要な課題であり、露光精度と生産性を両立する装置設計が求められる。
用途別市場と主要メーカーの競争環境
用途は、半導体ウエハー、マイクロ光学・フォトニクス・メタサーフェス、MEMS・センサー・マイクロ流体・バイオ医療、先端パッケージング・大型基板向け露光、研究開発・教育に分類される。2025年のデジタルマスクレス露光の売上構成比は約33.13%で、EBLに次ぐ規模だった。今後は先端パッケージング向けの需要拡大を背景に、最も高い成長が期待される。DLWではAR/VR、光通信、メタサーフェスなどが応用先となり、EBLとFIBは高解像度のナノ加工や研究用途で重要な役割を維持するとみられる。
主要メーカーには、Raith、Heidelberg Instruments、SCREEN Holdings、EV Group、JEOL、Vistec Electron Beam、Nanoscribe、UpNano、CETC 48、TESCAN、Circuit Fabology Microelectronics Equipmentなどがある。EBLではRaith、JEOL、Vistecなど、DLWではHeidelberg Instruments、Nanoscribe、UpNanoなどが主要企業として挙げられる。デジタル露光ではSCREEN、EV Group、Nikon、Ushio、ADTECなどが競争を展開し、FIBではRaithやTESCANが専門性を発揮している。今後は研究開発向けの高解像度性能に加え、量産ラインへの統合、大型基板への対応、工程変更の柔軟性が市場競争力を左右する。
Global Reportsの最新調査レポート「マスクフリー露光装置の世界市場規模、シェア、企業ランキング、売上、需要動向予測（2026～2032年）」をもとに、マスクフリー露光装置市場の市場規模、成長動向、主要企業の競争環境などについて整理します。
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