業界における際立った業績、および学会への多大なる貢献が認められる
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社:
栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、国際光工学会（The International Society for Optics and
Photonics：SPIE）において、ギガフォトン研究部技術アドバイザである鈴木章義氏が”SPIE Frits Zernike Award
in Microlithography” を受賞するとともに、副社長兼CTOである溝口計氏がSPIE フェローに選出されたと発表しました。
リソグラフィ技術にとっての主要学会であるSPIEによって2002年に創設されたFrits Zernike
Awardは、1953年に位相差顕微鏡でノーベル物理学賞を受賞し、リソグラフィ技術にも多大な影響を与えたZernike博士の名前を冠した「リソグラフィ界のノーベル賞」とも呼ばれる権威ある賞です。同賞は業界の中で特に際立った活躍をした者のみに贈られ、受賞者はこれまでに14名を数えますが、日本人の受賞は鈴木氏が初となります。鈴木氏の受賞は、40年以上のキャリアの中で、コンタクト露光機、1：1スキャナー、g線、i線、KrFステッパー、KrF/ArF/液浸スキャナー、EUV露光機、NILなど、黎明期から現在に至るあらゆる光リソグラフィ装置の技術革新に寄与した業績を称えられたものです。
鈴木氏は次のようにコメントしています。「SPIEという学術団体から産業界の人間がこのような賞をいただけることは、我々が研究開発しているリソグラフィ技術がサイエンスの側面も強く持つ、挑戦的なハイテク産業の一翼を担っている証左であると思います。一緒に仕事をしてきた皆様に感謝いたします。」
さらに、ギガフォトン副社長兼CTOの溝口計氏が、長年に渡ってリソグラフィ技術へ貢献した者に与えられる、SPIEのフェローに選出されました。この称号は、溝口氏のDUVレーザ（KrF/ArF/F2）からEUV光源に至る約30年にわたる先端的な製品開発実績と、それを支える100本以上に及ぶ論文の寄稿が認められて授与されたものです。なお、光源技術者としてのフェロー選出は、世界初の快挙でもあります。また、今回の溝口氏の選出により同学会におけるリソグラフィ関係の日本人フェロー6名のうち、前出の鈴木氏、OBの岡崎信次氏を含む3名がギガフォトン関係者となりました。
溝口氏はこうコメントしています。「今回のフェロー選出は、論文寄稿だけでなく、そこに書かれた技術を現実の製品に結実させた、ギガフォトンや関係者の皆さんの努力への評価だと受け止めております。ここに皆様と喜びを分かちあうと共に、改めて感謝を申し上げます。今後もフェローの名に恥じぬよう、技術開発の推進および後進の育成に専心したいと思います。」
＊2/25 ”SPIE Welcome and Plenary presentations” にて鈴木氏、溝口氏の受賞式が行われます。
＊2/28
“GIGAPHOTON-SPIE Lunch Session”にて鈴木氏、溝口氏の講演が行われます。
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
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ギガフォトン株式会社
経営企画部
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Eメール:
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