EUVリソグラフィ量産工場対応パイロット光源にて、平均出力100Wの安定稼働と発光効率5%を両立
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源の、最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源注）が完成し、95%の高デューティー、平均出力100Wの安定運転で、世界最高水準である発光効率5%を実現したと発表しました。
これまでギガフォトンは、20μm以下の微小ドロップレットの供給技術、固体レーザーによる改良型プリパルスと新たに導入した三菱電機株式会社製高周波放電励起式三軸直交型CO2レーザー増幅器による高光品位メインパルスビームの組み合わせ、エネルギー制御技術の改善、およびギガフォトン独自の技術である磁場を使ったデブリ除去技術を開発してきており、7月にはプロトタイプ機において130W以上の連続運転を達成したと発表しました。今回のパイロット光源は、EUVスキャナーに組み込むことを前提として設計されたシステムに、これらの新技術を組み込んだものであり、プロトタイプ光源よりも遥かに高いデューティー比（発光期間の運転時間に対する割合）95%で、出力105Wの安定運転、発光効率5%に成功したものです。これは半導体生産のスループットを決定する平均出力で100Wに相当し、ユーザーの現時点での要求を上回る性能と言えます。その運転実証に成功したことは、最先端半導体ラインの実現に大きく近づいた証といえます。
ギガフォトン代表取締役副社長兼CTOである溝口計氏は、次のようにコメントしています。「最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源で、95%の高デューティーおよび平均出力100Wの安定運転にて、世界最高水準の5%の発光効率で実現できたことは高出力、低ランニングコストでの安定稼働可能なEUV光源が、いよいよ市場導入間近であること示しています。このようなギガフォトンの高度な技術力と量産に向けた開発努力は、次世代露光技術としてのEUVスキャナーの開発を加速させるとともに、半導体産業の発展に寄与し、IoT社会の実現に貢献するものと確信しております。」
注）ギガフォトンがEUVリソグラフィ量産工場対応仕様にて設計した光源。別名称「高出力実証機」
*本件の詳細は10月24日～26日 広島にて開催される、
2016
International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithographyにて報告予定です。
*本件は、国立研究開発法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP
EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
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