株式会社パテント・リザルトは2015年10月22日、日本に出願されたCMP用研磨パッド関連技術について、特許分析ツール「Biz Cruncher」を用いて参入企業に関する調査結果をまとめ、レポートの販売を開始しました。
CMP（化学機械研磨）は研磨パッドを動かすことにより、スラリーがキャリアの凹凸を研磨することから、研磨パッドの材質や形状、各種物性値等が研磨特性に大きく関わってきます。本調査ではCMP用研磨パッドに関する特許を集計し、各個別特許の注目度を得点化する「パテントスコア」をベースとして、特許の質と量から総合的に見た評価を行いました。
その結果、「総合力ランキング」では、1位東洋ゴム工業、2位APPLIED MATERIALS（AMAT）、3位ROHM AND HAAS ELECTRIC MATERIALS CMP HOLDINGSとなりました。
総合力1位の東洋ゴム工業は樹脂製パッドの気泡に関し規定した特許、2位のAMATは表面粗さをその場測定するため研磨パッドに透明窓を形成する技術に関する特許、3位のROHM AND HAAS ELECTRIC MATELIALS CMP HOLDINGSは溝パターンに関する特許が高い注目度となっています。なお、総合力3位のROHM AND HAAS ELECTRIC MATERIALS CMP HOLDINGSはかつてのRODELがROHM AND HAASに買収され名義が変わったものです。また、ROHM AND HAAS自体もDOW CHEMICALに買収されており、2014年以降の出願分のほとんどがDOW CHEMICALの子会社であるDOW GLOBAL TECHNOLOGIESとの共同出願になっているという特徴があります。このほかDOW CHEMICAL関連企業としてはニッタとの合弁企業であるニッタ・ハースが上位にランクインしています。
次に、総合力上位5社について、特許分類の一つであるFタームを利用し、研磨パッドにおける技術要素を集計しました（各企業の技術要素別出願割合を表示。各技術要素は重複集計）。
AMATを除く4社の「構造、形状」に関する特許はそれぞれ90%以上となっており、特にNEXPLANARは全ての特許が「構造、形状」に関連したものとなっています。NEXPLANARはこのほか「材質」、「製造・評価」についても90％以上となり、同社の特許は材質、構造、製造と様々な要素が含まれているものが多いということが分かります。このほか、AMATは「構造、形状」に関する出願割合が多いものの総合力上位5社の中では最も低く、一方で「コンディショニング」への出願割合が最も高く、他の総合力上位企業と比べ異なる特徴があることが分かります。
本分析の詳細については、特許・技術調査レポート「CMP用研磨パッド関連技術」にてご覧いただけます。
■価格：100,000円～（税抜）
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http://www.patentresult.co.jp/news/2015/10/cmp2.html
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