ICパッケージ技術研究用に、加工用途向けエキシマレーザー「G300K」が採用される
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、加工用途向けKrFエキシマレーザー「G300K」が台湾の国家実験研究院のプロジェクトに採用され、12/27、国立成功大学に納入したと発表しました。
台湾の国家実験研究院（NARLabos）の参画機関である国立成功大学では、国家プロジェクトとして、エキシマレーザーを使ったICパッケージング技術に関する研究を進めています。今回の採用は、微細アブレーションを始めとする「加工の最適化」をコンセプトとして開発されたギガフォトンのKrFレーザー「G300K」が、この研究に最適と判断され、実現しました。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「半導体リソグラフィ以外の分野で展開するGIGANEXシリーズのG300Kは、ギガフォトンが長年培った99％以上の高稼働率、高出力を実現しているリソグラフィ用光源技術をベースに開発しており、この度のプロジェクトに貢献すると確信しています。幅広いお客様へソリューションを提供できるGIGANEXシリーズが、今後も新しいアプリケーションに適用され、次世代の産業界の発展に貢献することを期待しています。」
ギガフォトンについて
ギガフォトンは、半導体リソグラフィ用DUV光源の開発・製造のリーディングカンパニーとして、設立当初から最先端技術を駆使した多くのソリューションを世界の半導体メーカーへ提供しています。また、EUV光源およびリソグラフィ以外の分野に向けたDUV光源の開発にも取り組んでいます。ギガフォトンは研究開発から製造・販売・保守サービスまで、豊富な知識と経験を持った専門家集団として、常にユーザーの目線に立った業界最高水準のサポートを提供し続けていきます。
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