CH3Fは半導体の製造工程において、窒化膜の微細加工（エッチング）に使用される特殊ガスです。主に微細化を必要としたNANDフラッシュ、DRAM等の半導体メモリの製造工程で使用されています。CH3Fは他のガスに比べて高選択比が得られるため、積層化が進んでいる3D NAND工程の立ち上げ等の影響で、需要が増加しています。
今般、当社は韓国SKグループの高純度ガス製造会社である SKM社と共同で会社を設立し、CH3Fの製造プラントを新設、販売を行うことについて、SKM社と基本合意に至りました。会社設立は17年2月、プラント建設完了は8月を予定しています。合弁会社設立後も両社共同の上、半導体・ディスプレイ用高純度ガスをさらに拡大する考えです。
当社の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高い評価をいただいています。また当社はフッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業として、お客様の製造工程に最適なガスを提案いたします。
当社は、現在推進中の中期経営計画“Project 2020＋”において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけております。当社は今後も、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図ってまいります。
＜合弁会社の概要＞
社名: SK 昭和電工株式会社
本社住所: 大韓民国 慶尚北道 栄州市
設立日: 2017年2月（予定）
資本金: 210億 韓国ウォン（予定）
出資比率: 昭和電工 49％、SK マテリアルズ 51％
事業内容: 高純度ガス（CH3F）の製造・販売
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概要：昭和電工株式会社
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