新設備は2017年5月に完工、6月より商業運転を開始する予定です。
新グレード製品は、当社が販売する高純度溶剤「ソルファイン(R)」シリーズの製品をさらに高純度化した超高純度溶剤です。これまで、当社の高純度溶剤は主に液晶・半導体の洗浄剤として販売していましたが、新グレードの超高純度溶剤は、主に半導体フォトレジスト用の溶媒として提供します。
半導体プロセスのキーマテリアルであるフォトレジストは、半導体集積度向上に伴い、非常に高い品質レベルが必要とされ、フォトレジストの90％を構成する溶媒にも品質改善が求められていました。当社では主に洗浄剤として溶剤を販売していましたが、フォトレジスト用の溶媒への採用を目指し、超高純度化の技術検証・設備化検討を進めてきました。今般、サンプルワークで一定の成果が出たことから、新製品向けの精製設備の新設を決定しました。
新設備では、半導体フォトレジスト向けに需要が見込まれるシクロヘキサノン及び数種類の溶媒から生産を開始し、お客様市場動向を見極めながら製品ラインアップの拡大を図ってまいります。また、製品供給は、中・小型容器の他、従来、品質維持が困難とされていたローリー等の大型容器でも対応します。当社は、自社で精製・分析・品質保証を行うことで、フォトレジスト用に溶媒を安定的に供給します。
当社は、有機・無機系の各種溶剤「ソルファイン(R)」シリーズを様々な産業分野向けに販売しています。今般の新グレードの開発により、エレクトロニクス分野向け事業の強化を図るとともに、高品質の製品を安定供給することで、お客様の期待に応えてまいります。
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