*14:12JST 大日印---大幅反発、ラピダス向けフォトマスクを量産と報じられる 大日印<7912>は大幅反発。ラピダス向けに回路形成に使う原版「フォトマスク」を、主力拠点である上福岡工場で27年度に国内で量産すると報じられている。開発・量産するのは2ナノ品向けのフォトマスクで、24年度中に専用装置を国内工場に2台導入。まずは総額500億円規模を投じるようだ。ラピダスはNEDOから受託した
「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」の一環として2ナノ半導体開発を進めており、同社は再委託先として参画する。
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情報提供元： FISCO
記事名：「 大日印---大幅反発、ラピダス向けフォトマスクを量産と報じられる 」