フォトリソグラフィ装置とは
フォトリソグラフィ装置(Lithography Equipment)とは、フォトレジストを塗布したシリコンウエハー、化合物半導体基板、ガラス基板、フォトマスク、PCB、IC基板などに微細な回路・構造パターンを形成するための製造装置である。

半導体製造では、マスクを通過した光を基板上に投影するEUV露光やDUV露光が代表的であり、電子ビーム描画、レーザー直接描画、ナノインプリントなどのマスクレス露光技術も含まれる。AI半導体や高性能メモリの需要拡大を背景に、フォトリソグラフィ装置市場は先端プロセスから先端パッケージングまで用途を拡大している。

フォトリソグラフィ装置の写真

【画像 https://www.dreamnews.jp/press/367809/images/bodyimage1】

フォトリソグラフィ装置の世界市場規模
QYResearch調査チームの最新レポート「フォトリソグラフィ装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」によると、フォトリソグラフィ装置の世界市場は、2025年に31553百万米ドルと推定され、2026年には40440百万米ドルに達すると予測されています。その後、2026年から2032年にかけて年平均成長率(CAGR)9.1%で推移し、2032年には68122百万米ドルに拡大すると見込まれています。

【画像 https://www.dreamnews.jp/press/367809/images/bodyimage2】

上記の図表/データは、QYResearchの最新レポート「フォトリソグラフィ装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」から引用されている。

フォトリソグラフィ装置市場の製品構成と技術分類
フォトリソグラフィ装置は、用途別に前工程IC露光装置、先端パッケージング露光装置、電子ビーム描画装置(EBL)、レーザー直接描画装置(DLW)、デジタルマスクレス露光装置、マスクライター、LDI装置、FIBリソグラフィ装置、ナノインプリント装置(NIL)に分類される。

光源・描画方式では、EUV(13.5nm)、ArF(193nm)、KrF(248nm)、i線(365nm)、電子ビーム、集束イオンビームなどが主要技術となる。特にPCB・HDI・IC基板向けLDI、フォトマスク製造向けマスクライター、研究開発向けEBLは、それぞれ異なる精度・生産性要件を持つ。

フォトリソグラフィ装置市場の競争環境
前工程の最先端領域では、EUVおよび先端DUV露光装置が競争力を左右し、ASMLが圧倒的な技術的優位性を確立している。一方、NikonとCanonは成熟プロセス、特殊用途、パッケージング分野で事業を展開する。

先端パッケージングでは、Onto Innovation、SUSS、EVG、SCREEN、Ushioなどが、大面積露光、位置合わせ、直接描画技術を提供している。また、IMS Nanofabrication、NuFlare、Mycronicはマスクライター、JEOL、RAITH、Vistecは電子ビーム描画、Heidelberg InstrumentsやNanoscribeはレーザー直接描画分野で存在感を示している。

AI半導体投資が牽引する市場成長
SEMIの2026年7月発表によると、世界の半導体製造装置売上高は2026年に前年比23.2%増の1,659億米ドルに達する見通しである。うちウエハー製造装置は23.1%増の1,439億米ドルと予測され、AI向け先端ロジックやHBM関連DRAMへの投資が成長を支える。さらに、ASMLの2026年第3四半期売上高は117億ユーロとなり、新規露光装置の販売台数も113台に達した。これらの動向は、先端露光技術に対する設備投資の強さを示している。

先端パッケージングと次世代露光技術の展望
今後のフォトリソグラフィ装置市場では、AIアクセラレーター、HBM、チップレット、2.5D・3D実装の普及が重要な成長要因となる。特に先端パッケージングでは、大面積露光、高精度オーバーレイ、基板反り補正、ダイ単位の位置補正が重要な技術課題である。

また、EUVマスクの複雑化に伴い、マルチビームマスクライターへの移行も進むと考えられる。日本企業ではCanonのナノインプリント技術も注目されており、2027年の量産適用を視野に評価が進んでいる。

フォトリソグラフィ装置市場の中長期的な成長機会
中長期的には、High-NA EUV、計算リソグラフィ、電子ビーム描画、2光子レーザー加工、ナノインプリントなどが技術革新の中心となる。一方、処理速度、欠陥率、重ね合わせ精度、製造工程との統合、装置コストは依然として商用化の制約要因である。

今後は従来の半導体前工程だけでなく、シリコンフォトニクス、MEMS、マイクロLED、量子デバイス、光学部品などへの用途拡大が、フォトリソグラフィ装置メーカーの新たな競争機会を形成すると考えられる。

本記事は、QY Research発行のレポート「フォトリソグラフィ装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」に基づき、市場動向および競合分析の概要を解説します。

【レポート詳細・無料サンプルの取得】
https://www.qyresearch.co.jp/reports/2096545/lithography-equipment

お問い合わせ先
QY Research株式会社
URL:https://www.qyresearch.co.jp
日本住所:〒104-0061 東京都中央区銀座6-13-16 銀座Wallビル UCF5階
TEL:050-5893-6232(日本)/0081-5058936232(グローバル)
E-mail:japan@qyresearch.com

会社概要
QYResearch株式会社は、2017年に東京で設立された市場調査会社であり、各種業界に向けた調査・分析サービスを提供しています。主な業務内容には、市場規模分析、業界ポジション評価、フィージビリティスタディ、競争環境分析、事業計画策定支援などが含まれます。さらに、米国、韓国、ドイツ、スイス、ポルトガル、中国、インド、インドネシア、ベトナムをはじめとする世界10カ国に調査ネットワークを構築し、現地視点を活かしたグローバル市場調査レポートを展開しています。



配信元企業:QY Research株式会社
プレスリリース詳細へ

ドリームニューストップへ
情報提供元: Dream News
記事名:「 フォトリソグラフィ装置市場規模分析レポート:2026年は40440百万米ドルに到達予測 」