半導体用排ガス処理装置の世界市場2026年、グローバル市場規模（燃焼洗浄式、乾式、触媒式、湿式、プラズマ湿式）・分析レポートを発表

2026年10月28日
株式会社マーケットリサーチセンター

株式会社マーケットリサーチセンター（本社：東京都港区、世界の市場調査資料販売）では、「半導体用排ガス処理装置の世界市場2026年」調査資料を発表しました。資料には、半導体用排ガス処理装置のグローバル市場規模、動向、予測、関連企業の情報などが盛り込まれています。

■主な掲載内容
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市場規模と成長予測
世界の半導体用排ガス処理装置市場は、半導体製造能力の拡大、環境規制への対応、温室効果ガスの排出削減を背景に、持続的な成長が見込まれています。2025年の世界市場規模は18億2,500万米ドルと評価され、2032年には37億6,300万米ドルに達すると予測されています。予測期間中の年平均成長率は9.3％となる見通しです。
半導体用排ガス処理装置は、従来の環境規制対応設備から、半導体工場の安全性、生産設備の稼働率、炭素排出管理を支える重要なインフラへと進化しています。
2025年の上位5社の売上高合計は約8億9,800万米ドルで、世界市場の約50.65％を占めています。販売数量は約1万75台で、世界全体の約45.62％に相当します。
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製品の定義と技術的特徴
半導体用排ガス処理装置は、半導体製造工程で発生する有毒ガス、腐食性ガス、自然発火性ガス、温室効果の高いガスなどを分解・除去するための専用設備です。
主にプラズマエッチング、化学気相成長、原子層堆積、エピタキシャル成長、イオン注入、洗浄工程などで使用されます。製造装置、ドライ真空ポンプ、工場排気設備の間に設置され、有害物質の排出抑制と作業環境の安全確保に貢献します。
除去対象には、過フッ素化合物、三フッ化窒素、四フッ化炭素、六フッ化硫黄、シラン、アンモニア、塩化水素、フッ化水素、揮発性有機化合物などがあります。
近年は、ガス分解効率だけでなく、エネルギー消費量、水使用量、設備保守性、安全制御、炭素排出量の管理性能も重視されています。
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技術別市場の特徴
技術別市場は、燃焼洗浄式、乾式、触媒式、湿式、プラズマ湿式、その他の複合方式に分類されます。
2025年の販売数量では、燃焼洗浄式が6,916台で最大となり、乾式が5,252台、触媒式が3,324台、湿式が3,123台、プラズマ湿式が2,354台となっています。
燃焼洗浄式は自然発火性ガスや反応性の高いガス、乾式は低流量ガスや水分を避ける必要がある有害ガスの処理に適しています。触媒式は有機ガス、湿式は酸性・アルカリ性ガス、プラズマ湿式は分解が難しいフッ素系ガスの処理に利用されます。
2025年の平均販売価格はプラズマ湿式が約12万7,460米ドルと高く、市場平均の約8万300米ドルを上回っています。高効率で複雑な排ガス処理技術への需要拡大が、高付加価値製品の成長を支えています。
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市場の成長要因と技術動向
市場成長の主要因には、先端半導体の製造拡大、積層型メモリーの高度化、高アスペクト比エッチング工程の増加、温室効果ガス削減要求の強化があります。
半導体製造では、フッ素系ガスや反応性化学物質の使用量が増加しており、高効率な排ガス分解技術が求められています。
また、設備選定では分解除去効率に加え、燃料消費量、電力使用量、冷却水需要、排水処理負荷、保守周期、設置面積、総所有コストを総合的に評価する傾向が強まっています。
今後は、省エネルギー化、水使用量の削減、消耗品の現地調達、遠隔監視、予防保全などが重要な技術開発分野になると考えられます。
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製造工程別市場分析
製造工程別では、プラズマエッチング、化学気相成長および原子層堆積、エピタキシャル成長、イオン注入、その他の工程に分類されます。
2025年には、化学気相成長および原子層堆積向けが8,034台、売上高6億7,903万米ドルとなり、最大の用途分野を形成しています。プラズマエッチング向けは6,875台、売上高5億5,043万米ドルとなっています。
これらの工程では、フッ素系洗浄ガス、反応性前駆体、粉体状副生成物などが発生するため、高度なガス分解、温度管理、粉体処理、安全制御が必要です。
イオン注入工程では局所的な有害ガス管理、エピタキシャル成長工程では水素関連ガスや自然発火性ガスの処理が重視されています。
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最終用途別市場の動向
最終用途別市場は、ロジック半導体および半導体受託製造、ダイナミック型半導体メモリーおよび高帯域幅メモリー、三次元積層型不揮発性メモリー、太陽光発電、表示パネル、発光ダイオードおよび化合物半導体光電子製品などに分類されます。
先端ロジック半導体や高密度メモリーの製造では、複雑な成膜・エッチング工程が増加するため、高性能な排ガス除害設備への需要が高まっています。
また、パワー半導体、化合物半導体、表示パネルの製造設備も重要な需要分野となっており、各工程に適した専用処理技術が求められています。
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地域別市場の特徴
アジア太平洋地域は世界最大の需要市場です。2025年の消費数量は1万6,643台で、世界需要の約75.36％を占めています。北米は2,608台、欧州は2,319台となっています。
アジア太平洋地域では、台湾、韓国、中国本土、日本などに半導体製造拠点が集中しており、排ガス除害システムの需要を支えています。
生産面では、2025年に欧州が5,880台、中国が5,275台、日本が4,273台、北米が2,782台、韓国が2,685台を生産しています。
中国の生産数量は2026年の5,739台から2032年には9,952台へ増加すると予測され、重要な製造拠点としての存在感が高まる見通しです。
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主要企業と競争環境
世界市場の主要企業には、Ebara、Atlas Copco、GST (Global Standard Technology)、Shanghai Shengjian Technology、Busch Group、DAS Environmental Expert、CS Clean Solutions、Kanken Techno、UNISEM、Beijing Jingyi Automation Equipment、Ecosys Abatement、CECO Environmental、Greenstar、Goldenway Environmental Technology、Yasheng Semiconductor、Highvac、Nippon Sanso (Mitsubishi Chemical)、Anguil Environmental Systems、Wuxi Haileide Intelligent Technology、Shanghai Gaosheng Integrated Circuit Equipment、Gaopin Tech、PNC Process Systems、Resonac (formerly Showa Denko)などが含まれます。
売上高ではEbara、Atlas Copco、GST、Busch Group、DAS Environmental Expertが上位を占めています。
主要企業は、処理性能、製品の信頼性、保守サービス、半導体工場への導入実績などを競争力の基盤としています。一方、中国メーカーは、現地供給体制、短納期、個別仕様への対応を強化しています。
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産業構造と今後の市場展望
半導体用排ガス処理装置の上流産業には、耐腐食性材料、吸着剤、触媒、燃焼装置、プラズマ電源、センサー、バルブ、制御装置、安全連動機構などが含まれます。
中流には排ガス処理装置メーカーとシステム統合企業が位置し、下流には半導体製造工場、メモリー製造企業、表示パネルメーカー、化合物半導体メーカーなどがあります。
本市場調査レポートでは、2021年から2032年までの市場規模、販売数量、平均販売価格を地域別、国別、技術別、製造工程別に分析しています。さらに、主要企業の市場シェア、競争環境、原材料、供給企業、販売経路、市場の成長要因と制約要因を総合的に評価しています。
今後は、半導体製造技術の高度化と環境負荷低減への要求を背景に、高効率・省エネルギー型の排ガス除害システムへの投資が拡大すると予測されています。特に、フッ素系温室効果ガスの高効率分解、設備稼働率の向上、保守管理の電子化、炭素排出管理への対応が、市場の持続的成長を支える重要な要素になると考えられます。

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目次

半導体用排ガス処理装置市場調査レポートの目次
第1章市場概要
● 1.1 製品概要と調査対象範囲
● 1.2 市場推計の前提条件と基準年
● 1.3 技術別市場分析
o 1.3.1 技術別世界消費額比較（2021年・2025年・2032年）
o 1.3.2 燃焼・湿式洗浄型
o 1.3.3 乾式処理型
o 1.3.4 触媒処理型
o 1.3.5 湿式処理型
o 1.3.6 プラズマ・湿式処理型
o 1.3.7 その他
● 1.4 設置方式別市場分析
o 1.4.1 設置方式別世界消費額比較
o 1.4.2 一体型
o 1.4.3 独立型
● 1.5 最終製造分野別市場分析
o 1.5.1 製造分野別世界消費額比較
o 1.5.2 ロジック半導体・ウェハ受託製造
o 1.5.3 ダイナミックメモリ・高帯域幅メモリ
o 1.5.4 三次元積層型フラッシュメモリ
o 1.5.5 太陽光発電
o 1.5.6 ディスプレイパネル
o 1.5.7 発光ダイオード・化合物光電子デバイス
o 1.5.8 その他
● 1.6 製造工程別市場分析
o 1.6.1 工程別世界消費額比較
o 1.6.2 プラズマエッチング
o 1.6.3 化学気相成長・原子層堆積
o 1.6.4 エピタキシャル成長
o 1.6.5 イオン注入
o 1.6.6 その他
● 1.7 世界市場規模と予測
o 消費額・販売数量・平均価格（2021～2032年）
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第2章主要メーカーの企業概要
● 2.1 Ebara
● 2.2 Atlas Copco
● 2.3 GST (Global Standard Technology)
● 2.4 Shanghai Shengjian Technology
● 2.5 Busch Group
● 2.6 DAS Environmental Expert
● 2.7 CS Clean Solutions
● 2.8 Kanken Techno
● 2.9 UNISEM
● 2.10 Beijing Jingyi Automation Equipment
● 2.11 Ecosys Abatement
● 2.12 CECO Environmental
● 2.13 Greenstar
● 2.14 Goldenway Environmental Technology
● 2.15 Yasheng Semiconductor
● 2.16 Highvac
● 2.17 Nippon Sanso (Mitsubishi Chemical)
● 2.18 Anguil Environmental Systems
● 2.19 Wuxi Haileide Intelligent Technology
● 2.20 Shanghai Gaosheng Integrated Circuit Equipment
● 2.21 Gaopin Tech
● 2.22 PNC Process Systems
● 2.23 Resonac (formerly Showa Denko)
● 各企業の共通調査項目
o 企業概要と主要事業
o 半導体用排ガス処理装置の製品・サービス
o 販売数量・平均価格・売上高・売上総利益率・市場シェア（2021～2026年）
o 最近の事業展開・最新動向
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第3章メーカー別競争環境
● 3.1 メーカー別世界販売数量（2021～2026年）
● 3.2 メーカー別世界売上高（2021～2026年）
● 3.3 メーカー別平均販売価格
● 3.4 市場シェア分析（2025年）
o メーカー別売上高・出荷実績・市場占有率
o 上位3社・上位6社の市場シェア
● 3.5 企業別市場展開分析
o 地域別事業展開
o 製品種類別事業展開
o 用途別事業展開
● 3.6 新規参入企業と市場参入障壁
● 3.7 合併・買収・契約・協業動向
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第4章地域別消費分析
● 4.1 世界市場の地域別規模
o 地域別販売数量（2021～2032年）
o 地域別消費額（2021～2032年）
o 地域別平均価格（2021～2032年）
● 4.2 北米市場の消費額
● 4.3 欧州市場の消費額
● 4.4 アジア太平洋市場の消費額
● 4.5 南米市場の消費額
● 4.6 中東・アフリカ市場の消費額
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第5章技術別市場分析
● 5.1 技術別世界販売数量（2021～2032年）
● 5.2 技術別世界消費額（2021～2032年）
● 5.3 技術別世界平均価格（2021～2032年）
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第6章製造工程別市場分析
● 6.1 工程別世界販売数量（2021～2032年）
● 6.2 工程別世界消費額（2021～2032年）
● 6.3 工程別世界平均価格（2021～2032年）
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第7章北米市場分析
● 7.1 技術別販売数量
● 7.2 製造工程別販売数量
● 7.3 国別市場規模
o 国別販売数量・消費額
o 米国の市場規模と予測
o カナダの市場規模と予測
o メキシコの市場規模と予測
o 分析期間：2021～2032年
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第8章欧州市場分析
● 8.1 技術別販売数量
● 8.2 製造工程別販売数量
● 8.3 国別市場規模
o 国別販売数量・消費額
o ドイツの市場規模と予測
o フランスの市場規模と予測
o 英国の市場規模と予測
o ロシアの市場規模と予測
o イタリアの市場規模と予測（2021～2032年）
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第9章アジア太平洋市場分析
● 9.1 技術別販売数量
● 9.2 製造工程別販売数量
● 9.3 地域別市場規模
o 地域別販売数量・消費額
o 中国の市場規模と予測
o 日本の市場規模と予測
o 韓国の市場規模と予測
o インドの市場規模と予測
o 東南アジアの市場規模と予測
o オーストラリアの市場規模と予測（2021～2032年）
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第10章南米市場分析
● 10.1 技術別販売数量
● 10.2 製造工程別販売数量
● 10.3 国別市場規模
o 国別販売数量・消費額
o ブラジルの市場規模と予測
o アルゼンチンの市場規模と予測
o 分析期間：2021～2032年
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第11章中東・アフリカ市場分析
● 11.1 技術別販売数量
● 11.2 製造工程別販売数量
● 11.3 国別市場規模
o 国別販売数量・消費額
o トルコの市場規模と予測
o エジプトの市場規模と予測
o サウジアラビアの市場規模と予測
o 南アフリカの市場規模と予測（2021～2032年）
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第12章市場動向と成長要因
● 12.1 半導体用排ガス処理装置市場の成長促進要因
● 12.2 市場成長の制約要因
● 12.3 市場動向と技術発展の分析
● 12.4 業界の5つの競争要因分析
o 新規参入企業の脅威
o 供給業者の交渉力
o 購買企業の交渉力
o 代替製品・技術の脅威
o 既存企業間の競争
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第13章原材料と産業構造
● 13.1 半導体用排ガス処理装置の主要原材料と供給メーカー
● 13.2 製造コストの構成比率
● 13.3 半導体用排ガス処理装置の製造工程
● 13.4 産業バリューチェーン分析
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第14章流通経路別出荷分析
● 14.1 販売経路
o 最終需要家への直接販売
o 販売代理店・流通業者経由の販売
● 14.2 主要販売代理店の分析
● 14.3 主要顧客・需要企業の分析
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第15章調査結果と結論
- 15.1 半導体用排ガス処理装置市場の調査結果と結論
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第16章付録
● 16.1 調査方法
● 16.2 調査手順とデータ出典
● 16.3 免責事項
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【半導体用排ガス処理装置について】

半導体用排ガス処理装置とは、半導体製造工程で発生する有害ガスや温室効果ガス、腐食性ガスなどを分解・除去し、安全な状態に処理するための環境保護装置です。半導体製造では、エッチング、化学気相成長（CVD）、薄膜形成、洗浄などの工程で多様な化学物質が使用されます。これらの工程から排出されるガスを適切に処理することで、作業環境の安全性確保、環境負荷の低減、排出規制への対応に貢献します。

半導体用排ガス処理装置の主な特徴は、高い有害物質除去性能、多様なガスへの対応能力、安定した連続運転性能、自動制御機能です。燃焼、加熱、化学反応、湿式洗浄などの技術を利用し、排ガスの種類や濃度に応じた処理を行います。また、温度、圧力、流量などを監視し、異常発生時には警報や安全停止を行う機能を備えた製品もあります。省エネルギー性能や保守作業の効率化も重要な特徴です。

半導体用排ガス処理装置は、主に燃焼式、熱分解式、湿式、乾式、複合式などに分類されます。燃焼式は、高温の燃焼反応によって可燃性ガスや特定の温室効果ガスを分解する方式です。熱分解式は、高温環境で有害成分を分解します。湿式は、水や薬液を使用して水溶性ガスや酸性ガスを吸収・中和する方式です。乾式は、吸着剤や反応剤によって有害物質を除去します。複合式は、複数の処理技術を組み合わせ、幅広い排ガス成分に対応します。

主な用途には、半導体ウェハー製造、エッチング装置、CVD装置、原子層堆積（ALD）装置、拡散炉、洗浄設備などがあります。特にプラズマエッチングや薄膜形成工程では、フッ素系ガスや反応副生成物が排出されるため、高性能な排ガス処理が求められます。また、半導体工場の排気システムと連携し、製造設備の安定稼働や環境管理を支援します。

近年は、半導体製造能力の拡大、環境規制の強化、温室効果ガス排出削減への取り組みを背景に、半導体用排ガス処理装置の重要性が高まっています。今後は、処理効率の向上、低消費電力化、排ガス監視の高度化、小型化などが進み、半導体産業における需要の拡大が期待されています。

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情報提供元： Dream News

記事名：「半導体用排ガス処理装置の世界市場2026年、グローバル市場規模（燃焼洗浄式、乾式、触媒式、湿式、プラズマ湿式）・分析レポートを発表」