ギガフォトン、半導体露光技術最大の学会「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023」にて論文発表

栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2023年2月26日（日）から3月2日（木）（アメリカ時間）にかけてカリフォルニア州サンノゼにて開催される、半導体露光技術に関する世界最大の学会「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023」において、次の論文発表を行います。

弊社では、DUVの露光技術における歩留まり改善やサステナビリティ推進に関するトピックス、およびEUVに関する研究開発進捗状況について紹介します。

（論文ペーパーのコピーが必要な場合には、ギガフォトンまでご連絡ください。）

・ギガフォトン　SPIEプレゼンテーション発表

先端液浸露光用光源によるEPE改善と生産性改善技術　 [Paper#: 12494-44]

プラズマ特性から想定される半導体製造におけるLPP-EUV光源の将来像 [Paper#: 12494-45]

・ポスター発表

LPP-EUV光源の主要コンポーネント関発状況　[Paper#: 12494-51]

エキシマ光源性能の機械学習シミュレーションを通した装置メンテナンス機能の開発　 [Paper#: 12496-101]

先端ArF液浸露光用光源「GT66A」による装置稼働率最大化を通したサステナビリティ貢献 [Paper#: 12494-60]

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大石憲司

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