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リソグラフィ光源のダウンタイムを最大50%改善し、
リソグラフィ装置稼働率向上に大きく貢献
高まる半導体需要に応える
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--(ビジネスワイヤ) -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社(本社:
栃木県小山市、代表取締役社長:
浦中克己)は1月、近年の高まる半導体需要に応える新製品、最先端の液浸露光(リソグラフィ)装置向けArFエキシマレーザー、「GT65A」1号機を出荷したと発表しました。GT65Aはレーザーの安定稼働とプロセスマージンの向上を提供し、リソグラフィ装置の生産性向上に大きく貢献します。
GT65Aの特徴であるダウンタイム最大50%の改善は、主要モジュールであるチャンバの寿命を30%延長させたことと、これまでギガフォトンが積み上げてきた経験とノウハウをベースとしたメンテナンスの効率化により実現しました。
また、スペクトル制御機能である安定化技術「eMPL
Solid」と、コントロール機能「hMPL」は、CDの均一性の向上およびプロセスの最適化と拡張性を可能にしています。
さらに、GT65Aはヘリウムガスの無使用化を実現しています。これにより、環境負荷低減だけでなく、将来におけるヘリウムガスの供給不足や価格高騰の際のリスクを大幅に減らし、お客様のサステイナビリティ向上とCSR活動に貢献します。
ギガフォトン代表取締役社長の浦中克己はこうコメントしています。「近年の半導体市場の好況を受け、リソグラフィ装置の稼働率向上が各メーカーの重要課題となっています。私たちは新ロードマップ“RAM
Enhancement”に沿った新技術により、リソグラフィ光源の信頼性(Reliability)・稼働率(Availability)・保守効率性(Maintainability)を一層強化・改善し、半導体製造業界に貢献します。」
GT65Aに関する過去のニュースリリースはこちら
RAM
Enhancementに関する過去のニュースリリースはこちら
ヘリウムフリーに関する過去のニュースリリースはこちら
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.comをご覧ください。
報道関係者向けの連絡窓口:
ギガフォトン株式会社
経営企画部
寺嶋 克知
TEL:
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