最先端半導体量産適用可能レベルの発光に成功
栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- リソグラフィ光源の主要メーカーであるギガフォトン株式会社は、現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機において、発光効率4.0.%で最先端半導体量産適用可能レベルである出力250Wの発光に成功、および130W以上の出力で119時間の連続運転試験についても成功したと発表しました。
この成果は、これまでギガフォトンが開発を続けてきた、20μm以下の微小ドロップレットの供給技術、固体レーザーによるプリパルスとCO2レーザーによるメインパルスの組み合わせ、エネルギー制御技術の改善、および磁場を使ったデブリ除去技術をさらに進化させたことよって達成されました。
ギガフォトンでは、半導体量産工場での使用を想定して設計したEUV光源の高出力検証機の稼働も併せて開始しており、引き続き最先端半導体量産への適用を目指して高稼働率、高信頼性EUV光源の開発を進めていきます。
ギガフォトン代表取締役副社長兼CTOである溝口計氏は、次のようにコメントしています。
「発光効率4.0%にて250W出力に成功したことは、半導体量産工場が待望する高出力、低ランニングコストで安定稼働が可能なEUV光源の完成が間近であることを示しています。このようなギガフォトンの高度な技術力と量産に向けた開発努力は、量産用EUVスキャナーの開発を加速させ、次世代露光技術としてのEUVスキャナーの導入時期を一層早め、半導体産業の発展に寄与し、IoT社会の実現を加速させる画期的な成果であると確信しております」。
*本件は、国立研究開発法人「新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）」の助成プログラムの成果を活用しています。
ギガフォトンについて
2000年設立以来、ギガフォトンはレーザーサプライヤーとして、価値あるソリューションを世界の半導体メーカーに提供し続けています。ギガフォトンの、特許を取得した革新的技術であるLPP
EUVソリューションは、費用対効果と生産性に優れた量産向けEUVスキャナーの実現に向けて先導的役割を果たしています。ギガフォトンは、研究開発から製造・販売・保守サービスまで、常にユーザー目線に立った業界最高水準のサポートをお約束します。詳細についてはwww.gigaphoton.com/ja/をご覧ください。
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